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問答題
【簡答題】描述電子回旋共振（ECR）。
答案：
ECR反應(yīng)器在1~10毫托的工作壓力下產(chǎn)生很密的等離子體。它在磁場環(huán)境中采用2.45GHZ微波激勵源來產(chǎn)生高密度等離子體...
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問答題
【簡答題】解釋發(fā)生刻蝕反應(yīng)的化學(xué)機(jī)理和物理機(jī)理。
答案：
在純化學(xué)機(jī)理中，等離子體產(chǎn)生的反應(yīng)元素（自由基和反應(yīng)原子）與硅片表面的物質(zhì)發(fā)生應(yīng)。物理機(jī)理的刻蝕中，等離子體產(chǎn)生的帶能粒...
問答題
【簡答題】干法刻蝕的目的是什么？例舉干法刻蝕同濕法刻蝕相比具有的優(yōu)點(diǎn)。干法刻蝕的不足之處是什么？
答案：
干法刻蝕的主要目的是完整地把掩膜圖形復(fù)制到硅片表面上。
干法刻蝕的優(yōu)點(diǎn)：
1.刻蝕剖面是各向異性，具...
干法刻蝕的優(yōu)點(diǎn)：
1.刻蝕剖面是各向異性，具...
