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單項(xiàng)選擇題

自（）年研究開發(fā)成功第一塊單片集成電路以來，建立了幾個(gè)集成電路重點(diǎn)科研和生產(chǎn)基地?，F(xiàn)在每年可生產(chǎn)2.5億塊電路，增長(zhǎng)幅度達(dá)45%?！熬盼濉蹦┢诩呻娐放可a(chǎn)的水平為1—1.5微米，研究水平為0.8微米，并在0.5—0.6微米工藝技術(shù)預(yù)研取得成果。

A.1956
B.1965
C.1966

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