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問答題

【簡答題】描述熱氧化過程。

答案： ①干氧：Si＋O₂SiO₂
氧化速度慢，氧化層干燥、致密，均勻性、...

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【簡答題】二氧化硅薄膜在集成電路中具有怎樣的應(yīng)用？

答案： ①器件保護（避免劃傷和污染），因sio₂致密；
②表面鈍化（飽和懸掛鍵，降低界面態(tài)；需一...

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