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問(wèn)答題
【簡(jiǎn)答題】解釋光刻膠選擇比。要求的比例是高還是低？
答案：
光刻膠選擇比是指顯影液與曝光的光刻膠反應(yīng)的速度快慢，選擇比越高，反應(yīng)速度越快，所以要比例高。
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問(wèn)答題
【簡(jiǎn)答題】解釋光刻膠顯影。光刻膠顯影的目的是什么？
答案：
光刻膠顯影是指用化學(xué)顯影液溶解由曝光造成的光刻膠的可溶解區(qū)域，其主要目的是把掩膜版圖形準(zhǔn)確復(fù)制到光刻膠中。
問(wèn)答題
【簡(jiǎn)答題】給出投影掩模板的定義。投影掩模板和光掩模板的區(qū)別是什么？
答案：
投影掩膜版是一種透明的平板，在它上面有要轉(zhuǎn)印到硅片上光刻膠層的圖形。投影掩膜版只包括硅片上一部分圖形，而光掩膜版包含了整...
