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問答題

【簡答題】有哪幾種常用的化學(xué)氣相淀積薄膜的方法？

答案：

常壓化學(xué)氣相淀積（APCVD.，
低壓化學(xué)氣相淀積（LPCVD.，
等離子體輔助CVD。

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答案： 1.光刻是通過一系列生產(chǎn)步驟將晶圓表面薄膜的特定部分除去并得到所需圖形的工藝。
2.光刻的重要性是在二氧化硅或...

【簡答題】簡述在芯片制造中對金屬電極材料有什么要求？

答案： 1、能很好的阻擋材料擴(kuò)散；
2、高電導(dǎo)率，低歐姆接觸電阻；
3、在半導(dǎo)體和金屬之間有很好的附著能力；...

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