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單項(xiàng)選擇題

（）是以物理的方法來進(jìn)行薄膜沉積的一種技術(shù)。

A.LPCVD
B.PECVD
C.CVD
D.PVD

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單項(xiàng)選擇題

物理氣相沉積簡稱（）。

A.LVD
B.PED
C.CVD
D.PVD

多項(xiàng)選擇題

薄膜沉積的機(jī)構(gòu)包括那些步驟（）。

A.形成晶核
B.晶粒成長
C.晶粒凝結(jié)
D.縫道填補(bǔ)
E.沉積膜成長