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單項(xiàng)選擇題

分子篩脫水再生控制系統(tǒng)再生過程分為（）

A、“待機(jī)”“減壓”“冷卻”“增壓”
B、“待機(jī)”“減壓”“加熱”“冷卻”
C、“待機(jī)”“減壓”“加熱”“冷卻”“增壓”
D、“減壓”“加熱”“冷卻”“增壓”

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單項(xiàng)選擇題

分子篩脫水再生控制系統(tǒng)正壓防爆系統(tǒng)盤內(nèi)正壓值：（）PA

A、100～200
B、100～320
C、200～320
D、50～150

單項(xiàng)選擇題

分子篩脫水再生控制系統(tǒng)正壓防爆系統(tǒng)環(huán)境溫度要求：（）℃

A、-20～+100
B、20～50
C、-20～+25
D、-20～+50