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填空題

在單晶硅表面制作絨面時，常用的各向異性腐蝕劑有有機腐蝕劑和（），并且被腐蝕的單晶硅表面為100晶面時，可形成金字塔方椎形狀，腐蝕后方椎高度一般為3～6µm。

答案：堿性腐蝕劑

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工業(yè)中單晶硅的制備方法主要有（）和區(qū)熔法（FZ法）

答案：直拉單晶法（CZ法或切克勞斯基法）

晶體硅片蝕刻清洗的生產(chǎn)工藝有酸性蝕刻和堿性蝕刻兩種，其中酸性蝕刻是采用（）和硝酸的混合溶液，醋酸和磷酸當緩沖劑，一般去除約10-20µm厚的表面層。

答案：氫氟酸

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