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硅片上的氧化物主要通過()和()的方法產(chǎn)生,由于硅片表面非常平整,使得產(chǎn)生的氧化物主要為層狀結(jié)構(gòu),所以又稱為()。
答案:
熱生長;淀積;薄膜
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列出熱氧化物在硅片制造的4種用途()、()、場氧化層和()。
答案:
摻雜阻擋;表面鈍化;金屬層間介質(zhì)
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選擇性氧化常見的有()和(),其英語縮略語分別為LOCOS和()。
答案:
局部氧化;淺槽隔離;STI
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