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填空題

淀積膜的過程有三個不同的階段。第一步是（），第二步是（），第三步是（）。

答案：晶核形成；聚焦成束；匯聚成膜

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目前常用的CVD系統(tǒng)有（）、（）和（）。

答案： APCVD；LPCVD；PECVD

立式爐的工藝腔或爐管是對硅片加熱的場所，它由垂直的（）、（）和（）組成。

答案：石英工藝腔；加熱器；石英舟

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