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填空題

光刻包括兩種基本的工藝類型：負(fù)性光刻和（），兩者的主要區(qū)別是所用光刻膠的種類不同，前者是（），后者是（）。

答案：正性光刻；負(fù)性光刻膠；正性光刻膠

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CMP是一種表面（）的技術(shù)，它通過硅片和一個(gè)拋光頭之間的相對運(yùn)動(dòng)來平坦化硅片表面，在硅片和拋光頭之間有（），并同時(shí)施加（）。

答案：全局平坦化；磨料；壓力

硅片平坦化的四種類型分別是（）、部分平坦化、（）和（）。

答案：平滑；局部平坦化；全局平坦化