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判斷題

CMP帶來的一個顯著的質(zhì)量問題是表面微擦痕。小而難以發(fā)現(xiàn)的微擦痕導致淀積的金屬中存在隱藏區(qū)，可能引起同一層金屬之間的斷路。

答案：正確

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在CMP設備中被廣泛采用的終點檢測方法是光學干涉終點檢測。

答案：正確

電機電流終點檢測不適合用作層間介質(zhì)的化學機械平坦化。

答案：正確

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