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多項選擇題

干法蝕刻通常指利用輝光放電方式，產(chǎn)生等離子體來進(jìn)行圖案轉(zhuǎn)移的蝕刻技術(shù)。其中等離子體含有（）。

A.離子、電子
B.中性原子
C.分子
D.自由基

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多項選擇題

廣義而言，所謂的蝕刻技術(shù)可以分為（）。

A.干蝕刻
B.濕蝕刻
C.中性蝕刻
D.無側(cè)蝕蝕刻

多項選擇題

在堿性氯化銅蝕刻中，造成蝕刻過度的原因可能有（）。

A.傳送速度太慢
B.pH值過高
C.蝕刻液比重偏低
D.蝕刻液溫度不足

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