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單項選擇題

【A1/A2型題】金瓷基底冠進行氧化處理時，理想的氧化層應為多厚（）

A.0.05～0.1μm
B.0.1～0.2μm
C.0.2～2μm
D.2～2.5μm
E.2.5～3μm

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單項選擇題

【A1/A2型題】金瓷基底冠橋進行氧化，是在除氣的基礎上再加熱。至預定終點溫度時在非真空狀態(tài)下應繼續(xù)維持（）

A.1～2分鐘
B.3～5分鐘
C.5～10分鐘
D.10～12分鐘
E.12～15分鐘

單項選擇題

【A1/A2型題】金屬基底冠橋粗化處理時，用何種氧化鋁砂噴砂處理（）

A.15～25μm
B.25～35μm
C.35～50μm
D.50～100μm
E.100～120μm

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