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問答題
【簡答題】光刻技術(shù)中的常見問題有那些？
答案：
半導體器件和集成電路的制造對光刻質(zhì)量有如下要求：
一是刻蝕的圖形完整，尺寸準確，邊緣整齊陡直；
二是...
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問答題
【簡答題】什么是光刻，光刻系統(tǒng)的主要指標有那些？
答案：
光刻（photolithography）就是將掩模版（光刻版）上的幾何圖形轉(zhuǎn)移到覆蓋在半導體襯底表面的對光輻照敏感薄膜材...
