99色精品-9色在线-99色在线-99色视频国产欧美日产一区二区三区_亚洲精品亚洲人成在线观看_四虎在线精品永久观看_免费一级a一片久久精

<blockquote id="cyjaf"><acronym id="cyjaf"></acronym></blockquote>

問答題

【簡(jiǎn)答題】半導(dǎo)體工藝中常用的三種CVD反應(yīng)器類型

答案： APCVD：常壓化學(xué)氣相淀積
LPCVD: 低壓化學(xué)氣相淀積 &e...

你可能感興趣的試題

過刻蝕

答案：刻蝕薄膜時(shí)，晶圓內(nèi)的刻蝕速率和薄膜厚度并不完全均勻，主刻蝕后，會(huì)有少部分的薄膜留下，移除剩余薄膜的過程稱為過刻蝕。

負(fù)載效應(yīng)

答案：等離子體圖形化刻蝕過程中，刻蝕圖形將影響刻蝕速率和刻蝕輪廓。

<ruby id="s9x2p"><xmp id="s9x2p"></xmp></ruby>