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問(wèn)答題
【簡(jiǎn)答題】PN結(jié)隔離的雙極集成電路工藝需要幾次光刻，每次光刻目的是什么？
答案：
需要六次光刻
第一次—N+隱埋層擴(kuò)散孔光刻；
第二次—P+隔離擴(kuò)散孔光刻；<...
第一次—N+隱埋層擴(kuò)散孔光刻；
第二次—P+隔離擴(kuò)散孔光刻；<...
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問(wèn)答題
【簡(jiǎn)答題】伴隨一個(gè)橫向PNP器件產(chǎn)生兩個(gè)寄生的PNP晶體管，試問(wèn)當(dāng)橫向PNP器件在4種可能的偏置情況下，哪一種偏置會(huì)使得寄生晶體管的影響最大?
答案：
當(dāng)橫向PNP管處于飽和狀態(tài)時(shí)，會(huì)使得寄生晶體管的影響最大。
