99色精品-9色在线-99色在线-99色视频国产欧美日产一区二区三区_亚洲精品亚洲人成在线观看_四虎在线精品永久观看_免费一级a一片久久精

<i id="z4exl"><button id="z4exl"><object id="z4exl"></object></button></i>

<em id="z4exl"></em>

<dl id="z4exl"></dl>

填空題

光學光刻機的主要曝光光線的是波長為（）的g線和（）的i線，適合1微米以上特征尺寸的光刻。常用（）的KrF和（）的ArF準分子激光做1微米以下特征尺寸的光刻光源。

答案： 436nm；365nm；248nm；193nm

你可能感興趣的試題

光學光刻機主要有（）等幾種。非光學光刻機主要有（）。

答案：接觸式、接近式、投影式和分步重復光刻機；電子束光刻機和X射線光刻機

光刻工藝的主要工序有：（）組成。

答案：涂膠、前烘、對位、曝光、顯影、堅膜、介質刻蝕、去膠

<ins id="0k5ra"></ins>

<abbr id="0k5ra"><noframes id="0k5ra"><ruby id="0k5ra"></ruby>