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問答題

【簡答題】簡述HPCVD工藝的五個步驟

答案：（1）離子誘導(dǎo)淀積：指離子被托出等離子體并淀積形成間隙填充的現(xiàn)象
（2）濺射刻蝕：具有一定能量的Ar和因為硅片...

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答案：（1）高溫分解：通常在無氧的條件下，通過加熱化合物分解
（2）光分解：利用輻射使化合物的化學鍵斷裂分解

【簡答題】簡述淀積膜的過程的三種不同階段

答案：

（1）晶核形成，成束的穩(wěn)定小晶核形成
（2）聚集成束，也稱為島生長
（3）形成連續(xù)的膜