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真空滅弧室主屏蔽罩的主要作用之一是改善滅弧室內(nèi)部電場分布的均勻性,有利于降低局部場強(qiáng),促進(jìn)真空滅弧室小型化
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標(biāo)注直徑時,必須加注“φ”符號,不得省略。
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直徑大于40毫米的管子應(yīng)采用熱彎,其彎曲半徑不得小于其外徑的3.5倍。
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