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光刻工藝要求掩膜版圖形黑白區(qū)域之間的反差要低。()
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干法腐蝕清潔、干凈、無脫膠現(xiàn)象、圖形精度和分辨率高。()
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設(shè)備、試劑、氣瓶等所有物品不需經(jīng)嚴(yán)格清潔處理,可直接進(jìn)入凈化區(qū)。()
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