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問答題

【簡答題】簡單說明Contact（CT）的形成步驟有那些？

答案： Contact是指器件與金屬線連接部分，分布在poly、AA上。
① Contact的Photo（光...

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② HDP-FSG（摻有氟離子的硅...

【簡答題】一般介電層ILD的形成由那些層次組成？

答案： ① SiON層沉積（用來避免上層B，P滲入器件）；
② BPSG（摻有硼、磷的硅玻璃）層沉...