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A.光源為紫光
B.使用移相掩膜技術制備的光刻版
C.采取浸入式光刻方法
D.駐波效應對分辨率無影響

A.蒸鍍工藝的普適性更好
B.濺射工藝的普適性更好
C.濺射工藝薄膜質(zhì)量（如粘附性、保形性等）更好
D.蒸鍍工藝薄膜質(zhì)量（如粘附性、保形性等）更好

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