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單項(xiàng)選擇題

PVD沉積溫度一般（）

A.600℃以下
B.600-650℃
C.650-700℃
D.700℃以上

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單項(xiàng)選擇題

化學(xué)氣相沉積是非均相反應(yīng)，反應(yīng)所需的活化能（）相同的均相反應(yīng)。

A.等于
B.低于
C.高于
D.大大高于

單項(xiàng)選擇題

相比而言，下列表面誶火工藝中（）淬硬層最均勻，硬度最高，工件變形最小，加熱層深度和加熱軌跡容易控制，易于實(shí)現(xiàn)自動(dòng)化。

A.感應(yīng)淬火
B.滲碳淬火
C.火焰淬火
D.激光淬火

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