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問答題
【簡答題】列出Si—SiO2界面處的四種電荷，說明鈉離子是屬于哪一類電荷，以及這一類電荷會導致芯片出現(xiàn)什么問題，工藝中如何解決這一問題？
答案：
四種類型的界面電荷：可動離子電荷：Qm（C/cm2），正電荷，如Na+、K<...
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問答題
【簡答題】試說明高壓氧化技術(shù)的原理（或依據(jù)）及主要作用，并說明高低壓氧化各自的控制機制和氧化層厚度的變化規(guī)律。
答案：
常數(shù)B隨壓力線性變化，則在一定條件下，通過增加氧化劑分壓來強迫氧原子以更快的速度穿越正在生長的氧化層，因而使線性和拋物線...
問答題
【簡答題】什么是表面反應(yīng)控制？什么是擴散控制？并說明什么情況下生長過程分別為這兩種控制，以及這兩種控制在生長速率上呈何種反應(yīng)？
答案：
表面反應(yīng)控制階段：SiO2生長的初始階段，SiO2的生長速率即氧化層生長的快...
