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石膏旋流器底部排出的漿液濃度為()左右。
A.30%wt
B.40%wt
C.50%wt
D.60%wt
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多項選擇題
濕法FGD系統(tǒng)的設(shè)備腐蝕原因主要有()。
A.NO的腐蝕
B.SO2的腐蝕
C.硫酸根及亞硫酸根離子的腐蝕
D.氯離子、氟離子的腐蝕
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單項選擇題
若石膏中CaCO
3
過多,應(yīng)及時調(diào)整()提高氧化效果。
A.漿液的PH值
B.漿液的密度
C.給料機(jī)的下粉量
D.氧化空氣量
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