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填空題

專利權(quán)的內(nèi)容主要包括兩個(gè)方面，即（）和（）。

答案： 自己實(shí)施專利；許可或禁止他人實(shí)施專利
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填空題

創(chuàng)作是指直接產(chǎn)生（）、（）和（）作品的智力活動(dòng)。
答案： 文學(xué)；藝術(shù)；科學(xué)
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