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表面與界面成分分析的手段有()
A.XPS
B.XRF
C.AES
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單項(xiàng)選擇題
光電子產(chǎn)生的機(jī)理是()
A.內(nèi)層電子被X射線激發(fā)
B.外層電子被X射線激發(fā)
C.內(nèi)層電子被電子激發(fā)
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