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判斷題

光刻時，必須將硅片與掩模版進(jìn)行對準(zhǔn)，不同的掩模版之間也要對準(zhǔn)，可以采用仔細(xì)觀察的方法。

答案：錯誤

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形成接觸孔之前，需要先淀積一層PSG或BPSG材料，然后再該層材料上刻蝕出窗口作為接觸孔。

答案：正確

CMOS是由PMOS和NMOS構(gòu)成，制作時可以是P阱結(jié)構(gòu)，還可以是N阱結(jié)構(gòu)，更可以是雙阱結(jié)構(gòu)。

答案：正確

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