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問答題

【簡答題】刻蝕工藝的目的是什么，這個(gè)區(qū)中最常用的設(shè)備是什么？

答案：

目的：硅片上沒有光刻膠保護(hù)的地方留下永久的圖形。
常用設(shè)備：等離子刻蝕機(jī)，等離子體去膠機(jī)和濕法清洗設(shè)備。
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問答題

【簡答題】簡述有光刻膠覆蓋硅片的三個(gè)生產(chǎn)區(qū)域。
答案：

光刻區(qū)，刻蝕區(qū)和離子注入?yún)^(qū)
問答題

【簡答題】列出芯片廠中6個(gè)不同的生產(chǎn)區(qū)域并對每一個(gè)區(qū)域做簡單的描述。
答案： 擴(kuò)散：擴(kuò)散區(qū)一般認(rèn)為是進(jìn)行高溫工藝及薄膜沉積的區(qū)域。
刻：使用黃色瑩光管照明使得光刻區(qū)與芯片廠中的其他各個(gè)區(qū)明...
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