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問答題
【簡答題】給出硅片制造中光刻膠的兩種目的。
答案:
1.將掩膜版圖案轉(zhuǎn)移到硅片表面頂層的光刻膠中。
2.在后續(xù)工藝中保護下面的材料。
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【簡答題】列出光刻的8個步驟,并對每一步做出簡要解釋。
答案:
1氣相成底膜:第一步是清洗、脫水和硅片表面成底膜處理。
2旋轉(zhuǎn)涂膠:完成底膜后,硅片要立即采用旋轉(zhuǎn)涂膜的方法涂...
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【簡答題】解釋亮場掩膜版和暗場掩膜版。
答案:
如果一個掩膜版,其石英板上大部分被鉻覆蓋,它就指的是暗場掩膜版。亮場掩膜版有大面積的透明的石英,而只有很細的鉻圖形。
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