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問(wèn)答題

【簡(jiǎn)答題】列出按材料分類的三種主要干法刻蝕。

答案： 金屬刻蝕、介質(zhì)刻蝕、硅刻蝕
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問(wèn)答題

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答案： 目的是為涂膠的硅片上正確地復(fù)制掩膜圖形。
問(wèn)答題

【簡(jiǎn)答題】列舉下一代光刻技術(shù)中4種正在研發(fā)的光刻技術(shù)。
答案： 1.極紫外光刻技術(shù)（EUV）
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