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單項(xiàng)選擇題

還原退火爐內(nèi)，保護(hù)氣體H2濃度越高，則基板表面氧化膜被還原的速度（）。

A.越快
B.越慢
C.無(wú)變化

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單項(xiàng)選擇題

還原退火爐正常生產(chǎn)時(shí)，要保證爐內(nèi)始終（）。

A.微正壓
B.微負(fù)壓
C.與外界等壓

單項(xiàng)選擇題

停爐時(shí)，氫含量低于（）時(shí)，方可將溫度降低到700℃。

A.2%
B.4%
C.6%
D.10%