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多項(xiàng)選擇題

摻雜后，退火的目的是（）。

A.實(shí)現(xiàn)電激活
B.修復(fù)損傷
C.提高摻雜均勻性
D.加大損傷

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多項(xiàng)選擇題

常壓的硅外延方法有（）。

A.四氯化硅氫還原法
B.三氯氫硅氫還原法
C.二氯氫硅烷法
D.硅烷熱分解法

單項(xiàng)選擇題

刻蝕工藝可以和以下哪個(gè)工藝結(jié)合來(lái)實(shí)現(xiàn)圖形的轉(zhuǎn)移？（）

A.氧化
B.離子注入
C.光刻
D.拋光

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