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單項選擇題
為了實現(xiàn)全局平坦化,在集成電路中,經(jīng)常采用()工藝。
A.反刻
B.CMP
C.SOG
D.高溫回流
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單項選擇題
以下工藝中,方塊電阻是一個重要的參數(shù),一般用于衡量()工藝中雜質(zhì)情況。
A.氧化
B.擴散
C.光刻
D.刻蝕
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單項選擇題
在制作MOS管時,采用LOCOS工藝容易出現(xiàn)()。
A.溝道效應
B.鳥嘴效應
C.寄生效用
D.閂鎖效應
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