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多項選擇題

?對非光學曝光表述正確的是（）。

A.X-射線是非光學曝光
B.電子束是非光學曝光
C.非光學曝光都不需要光刻版
D.EUV是非光學曝光

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多項選擇題

對移相掩膜（PSM）表述正確的是（）。

A.使光通過后產(chǎn)生180度相位差
B.提高分辨率
C.消除了圖形邊緣的衍射

多項選擇題

對正性光刻膠特性表述正確的是（）。

A.分辨率高
B.顯影時曝光部分不溶解，未曝光部分溶解
C.分辨率低
D.顯影時曝光部分溶解，未曝光部分不溶解