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問答題

【簡答題】什么是硅片的自然氧化層？由自然氧化層引起的三種問題是什么？

答案：自然氧化層：如果曝露于室溫下的空氣或含溶解氧的去離子水中，硅片的表面將被氧化。這一薄氧化層稱為自然氧化層。硅片上最初的自...

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【簡答題】對凈化間做一般性描述。

答案：凈化間是硅片制造設備與外部環(huán)境隔離，免受諸如顆粒、金屬、有機分子和靜電釋放（ESD）的玷污。一般來講，那意味著這些玷污在...

【簡答題】例舉出硅片廠中使用的五種通用氣體。

答案：氧氣（O₂）、氬氣（Ar）、氮氣（N₂）、氫氣（H₂）和氦氣（He）。

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