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問答題

【簡答題】簡述負(fù)載和微負(fù)載效應(yīng)的概念

答案：負(fù)載效應(yīng)：要刻蝕硅片表面的大面積區(qū)域，則會耗盡刻蝕劑濃度使刻蝕速率慢下來；如果刻蝕的面積比較小，則刻蝕會快些
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【簡答題】簡述刻蝕的概念及其基本目的

答案：概念：用化學(xué)或物理方法有選擇地從硅片表面去除不需要的材料的過程
基本目的：在涂膠的硅片上正確地復(fù)制掩模圖形&e...

【簡答題】簡述反射切口、駐波的概念、抗反射涂層的作用

答案：反射切口：在刻蝕形成的垂直側(cè)墻表面，反射光入射到不需要曝光的光刻膠中就會形成反射切口
駐波：入射光與反射光發(fā)射...