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問答題

【簡答題】
如圖為鋁金屬化與銅金屬化工藝的比較。識別并描述每個工藝步驟。

答案：（a）鋁金屬化工藝下層鋁導線層間絕緣介質(zhì)沉積/平坦化通孔刻蝕通孔填充，形成鎢插塞上層鋁淀積上層鋁導線刻蝕
（b...

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【簡答題】
依照如圖，對硅片制造廠的六個分區(qū)分別做一個簡短的描述，要求寫出分區(qū)的主要功能、主要設(shè)備以及顯著特點。

答案：

多項選擇題

對于CMOS晶體管，要得到良好受控的閾值電壓，需要控制（）等工藝參數(shù)。

A.氧化層厚度；
B.溝道中摻雜濃度；
C.金屬半導體功函數(shù)；
D.氧化層電荷。