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電子束光刻主要用于制作掩膜。
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電子束可以通過磁透鏡聚焦,并靠偏轉(zhuǎn)線圈實現(xiàn)小角度的偏轉(zhuǎn),擴大加工區(qū)域。
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電子束加工必須在真空條件下進行。
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