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多項(xiàng)選擇題

按蒸發(fā)源加熱方法的不同，真空蒸發(fā)工藝可分為：（）蒸發(fā)、（）蒸發(fā)、離子束蒸發(fā)等。

A.電阻加熱
B.電子束
C.蒸氣原子

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單項(xiàng)選擇題

將預(yù)先制好的掩膜直接和涂有光致抗蝕劑的晶片表面接觸，再用紫外光照射來(lái)進(jìn)行曝光的方法，稱(chēng)為（）曝光。

A.接觸
B.接近式
C.投影

單項(xiàng)選擇題

光刻工藝是利用感光膠感光后抗腐蝕的特性在半導(dǎo)體晶片表面的掩膜層上的工藝（）

A.刻制圖形
B.繪制圖形
C.制作圖形

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