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多項(xiàng)選擇題

IC采用鋁互連系統(tǒng)時(shí)，下列哪種方法可以避免Al-Si的尖楔現(xiàn)象（）

A.在淀積的鋁膜中摻入約1%Si
B.在淀積的鋁膜中摻入約1%Cu
C.在鋁膜表面覆蓋Si₃N₄
D.在淀積鋁之前先淀積一薄層TiN薄膜

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在SiO₂/Si刻蝕過程中等離子體對(duì)硅的刻蝕速率必須控制在非常低的程度，否則SiO₂被清除的同時(shí)硅也大量被侵蝕。

答案：正確

多項(xiàng)選擇題

關(guān)于光學(xué)光刻，下列哪種方法可以獲得高分辨率（）

A.光源為紫光
B.使用移相掩膜技術(shù)制備的光刻版
C.采取浸入式光刻方法
D.駐波效應(yīng)對(duì)分辨率無影響

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