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問答題
【簡答題】
根據(jù)下圖給出的一氧化工藝的菜單實例,試說明:
(1)該工藝采用的氧化方法
(2)每一步驟的具體作用(或狀態(tài))
(3)氮氣在整個工藝流程中的作用
(4)工藝過程中加入HCl的主要作用
答案:
(1)干氧摻氯氧化;柵氧
(2)作用:見表中注釋
(3)第0~3步:去除雜質(zhì)氣體,同時起保壓作用
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問答題
【簡答題】氧化系統(tǒng)的基本組成結(jié)構(gòu)及每一部分的主要作用。
答案:
工藝腔:提供高溫氧化的加工環(huán)境
硅片傳輸系統(tǒng):實現(xiàn)硅片在工藝腔中的裝卸和傳輸
氣體分配系統(tǒng):實現(xiàn)維持...
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問答題
【簡答題】什么是氧化層固定電荷?其產(chǎn)生的主要原因是什么?它對半導(dǎo)體器件的電學(xué)特性有何影響?工藝中可以用什么辦法來解決?
答案:
氧化停止時,所有SiO
2
層在SiO
2
-Si的界面附近都有一個薄的正電荷層,它...
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