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問答題
【簡答題】什么是氧化層固定電荷？其產(chǎn)生的主要原因是什么？它對半導體器件的電學特性有何影響？工藝中可以用什么辦法來解決？
答案：
氧化停止時，所有SiO2層在SiO2-Si的界面附近都有一個薄的正電荷層，它...
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問答題
【簡答題】列出Si—SiO2界面處的四種電荷，說明鈉離子是屬于哪一類電荷，以及這一類電荷會導致芯片出現(xiàn)什么問題，工藝中如何解決這一問題？
答案：
四種類型的界面電荷：可動離子電荷：Qm（C/cm2），正電荷，如Na+、K<...
問答題
【簡答題】試說明高壓氧化技術(shù)的原理（或依據(jù)）及主要作用，并說明高低壓氧化各自的控制機制和氧化層厚度的變化規(guī)律。
答案：
常數(shù)B隨壓力線性變化，則在一定條件下，通過增加氧化劑分壓來強迫氧原子以更快的速度穿越正在生長的氧化層，因而使線性和拋物線...
