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多項(xiàng)選擇題

1990’s CMOS IC 工藝技術(shù)特征是（）。

A.淺槽隔離工藝
B.鋁柵工藝
C.多晶硅柵工藝
D.硅外延片襯底

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多項(xiàng)選擇題

?Stepper的優(yōu)點(diǎn)有（）。

A.光刻版的精度和良率高
B.可分步重復(fù)曝光
C.減小了塵埃的影響
D.套刻精度高

多項(xiàng)選擇題

?對(duì)非光學(xué)曝光表述正確的是（）。

A.X-射線是非光學(xué)曝光
B.電子束是非光學(xué)曝光
C.非光學(xué)曝光都不需要光刻版
D.EUV是非光學(xué)曝光

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