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問答題

【簡答題】什么樣的研磨液對(duì)什么樣的應(yīng)用？有哪些應(yīng)用？

答案：

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【簡答題】簡述CMP優(yōu)點(diǎn)和缺點(diǎn)

答案： 1.優(yōu)點(diǎn)
1）能獲得全局平坦化。
2）對(duì)于各種各樣的硅片表面都能平坦化。

【簡答題】簡述多晶硅注入的應(yīng)用

答案：源漏區(qū)注入
該部分的注入工藝其能量相對(duì)較低，但劑量屬中高范圍，一般采用中束流及大束流注入機(jī)。
（1）...

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