- 搜標(biāo)題
- 搜題干
- 搜選項
問答題
【論述題】簡述硅片表面污染的來源。
答案：
硅片表面污染的來源主要有以下幾方面：
（1）有機物沾污：包括切、磨、拋工藝中的潤滑油脂；石蠟、松香等粘合劑；手...
（1）有機物沾污：包括切、磨、拋工藝中的潤滑油脂；石蠟、松香等粘合劑；手...
你可能感興趣的試題
問答題
【簡答題】半導(dǎo)體芯片制造工藝對氣體有什么要求？
答案：
半導(dǎo)體芯片制造工藝中經(jīng)常使用氧、氬、氫、氮等氣體，由于這些氣體的微粒雜質(zhì)和水汽對半導(dǎo)體芯片的性能、質(zhì)量、成品率有極大的影...
