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問(wèn)答題

【簡(jiǎn)答題】簡(jiǎn)述1990年代CMOS工藝技術(shù)特征：特征尺寸、晶圓尺寸、襯底、隔離、源漏、柵極材料、光刻光源、曝光方式（光刻機(jī)）、刻蝕、互連材料及方式等。

答案：

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【簡(jiǎn)答題】簡(jiǎn)述CMOS雙阱工藝，畫出標(biāo)準(zhǔn)埋層雙極工藝流程示意圖。

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問(wèn)答題

【簡(jiǎn)答題】分析比較CMOS工藝中LOCOS和STI兩種隔離技術(shù)的各自特點(diǎn)。

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