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問答題

【簡答題】摻雜的主要目的是什么？給出硅片制造中的三種主要摻雜應(yīng)用。

答案：摻雜被廣泛應(yīng)用于硅片制造的全過程，是改變材料性能，改變晶片電學(xué)性質(zhì)、實現(xiàn)器件和電路縱向結(jié)構(gòu)的重要手段。
利用摻...

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【簡答題】
根據(jù)下圖給出的一氧化工藝的菜單實例，試說明：
（1）該工藝采用的氧化方法
（2）每一步驟的具體作用（或狀態(tài)）
（3）氮氣在整個工藝流程中的作用
（4）工藝過程中加入HCl的主要作用

答案：（1）干氧摻氯氧化；柵氧
（2）作用：見表中注釋
（3）第0~3步：去除雜質(zhì)氣體，同時起保壓作用

【簡答題】氧化系統(tǒng)的基本組成結(jié)構(gòu)及每一部分的主要作用。

答案：工藝腔：提供高溫氧化的加工環(huán)境
硅片傳輸系統(tǒng)：實現(xiàn)硅片在工藝腔中的裝卸和傳輸
氣體分配系統(tǒng)：實現(xiàn)維持...