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填空題
光刻膠的三種主要成分是：（）。正膠的感光劑是（），曝光使其（），正膠的曝光區(qū)在顯影后（）； 曝光使負(fù)膠的感光劑（），使曝光區(qū)在顯影后（）。
答案：
感光劑、基體材料和溶劑；重氮醌；長鏈分子斷裂；去除；交聯(lián)；保留
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填空題
光學(xué)光刻機(jī)的主要曝光光線的是波長為（）的g線和（）的i線，適合1微米以上特征尺寸的光刻。常用（）的KrF和（）的ArF準(zhǔn)分子激光做1微米以下特征尺寸的光刻光源。
答案：
436nm；365nm；248nm；193nm
填空題
光學(xué)光刻機(jī)主要有（）等幾種。非光學(xué)光刻機(jī)主要有（）。
答案：
接觸式、接近式、投影式和分步重復(fù)光刻機(jī)；電子束光刻機(jī)和X射線光刻機(jī)
